光学和XRF成像与分析

HORIBA科学已经发布了xgt - 9000x射线分析显微镜(µXRF)，同时对样品进行元素分析和光学观察。合并堀场的专利x射线技术XGT-9000不仅可以在包括半导体集成电路在内的一系列生产过程中筛查异物，还可以高精度地测量薄膜厚度和粘附量。XGT-9000集成了高分辨率显微镜和高强度x射线束的特点，对样品进行无损外来物分析，在高速分析模式之间切换，用于快速筛选外来物，并使用早期型号中首次纳入的微束进行详细分析。

XGT-9000配备了三种类型的光学照明:亮场同轴、暗场和透射。结合亮场同轴和暗场照明，可以清楚地观察到具有平坦或不均匀区域的样品，如半导体晶圆和薄膜。XGT-9000提供高度准确和快速的异物分析，使其能够检测可见的异物和不可见的小到几微米大小的异物。

照射的x射线与光学观测图像是同轴的，避免了任何偏差。其他改进包括缩短分析时间，增强绘图和图像处理，以及易于与其他分析设备组合。软件包包括定量和定性化学分析，厚度测定和图像分析功能。