离子色谱法涂装工艺的质量控制和优化

电镀等表面处理是设计具有专用物理、化学和电子性能的产品的最重要的工业过程之一。溶质、溶剂、催化剂和电解槽的纯度和组成是实现所需性能的关键要求，防止产品因不平衡或污染而损坏和低劣。杂质，即使是极微量的杂质，也会对集成电路和半导体工业最终产品的电性能产生不利影响。因此，半导体设备与材料国际(SEMI)规定了许多基本化学品和原料的杂质水平在低μ g/L范围内。离子色谱(IC)是分析离子杂质的理想方法，即使在ng/L范围内。

杂质如氟、氯、溴、亚硝酸盐、硝酸盐、磷酸盐或硫酸盐可能改变浴液的性质。因此，镀层性能会受到影响，甚至半导体会受到破坏。用于工艺解决方案的化学品和原材料，如蚀刻、电镀或清洁解决方案，需要几乎不含这种离子杂质。集成电路,结合内联矩阵消除和内联预富集，即使是在超痕量中也能理想地测定这类杂质。

内联矩阵消除去除不带电或相反带电的矩阵组分(如过氧化氢)，从而减少样品制备和提高柱寿命。与智能内联预浓缩的额外组合增加了测量灵敏度，允许分析ng/L范围内的杂质。

示例应用程序包括:

• 超纯水中痕量阴离子和阳离子分析
• 酸中痕量阴离子分析
• 四甲基氢氧化铵(TMAH)中的氯和硫酸盐
• 阴离子杂质在过氧化氢或有机溶剂如异丙醇

该技术的健壮性允许处理几乎所有的工艺解决方案，如蚀刻、提取或漂洗解决方案。

更多的信息在线